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    微波等離子在半導(dǎo)體去膠的應(yīng)用

    何為半導(dǎo)體晶圓plasma除膠?

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    半導(dǎo)體加工工藝及其它薄膜加工工藝過(guò)程中,各類光刻膠的等離子去除,去除材料表面污染物,保證與其他材料的結(jié)合能力。


    除膠之外,微波等離子還有什么應(yīng)用?

    FC封裝微波等離子處理

    金屬鍵合前處

    晶圓表面活化


    SINDIN自主研發(fā),掌控核心技術(shù)

    國(guó)內(nèi)首家自主研發(fā)微波半導(dǎo)體去膠發(fā)生器技術(shù);

    磁流體旋轉(zhuǎn)架,保證處理效果均勻;

    微波無(wú)放電電極,高效均勻,保證刻蝕率;

    低溫等離子體,避免產(chǎn)生熱損傷;

    自偏壓要求低,微波結(jié)和磁路可以兼容。


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