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真空等離子鍍膜機

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真空等離子鍍膜機(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)，是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。

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