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    快速退火工藝在歐姆接觸中的應(yīng)用RTP

    作為新一代半導(dǎo)體的代表材料,氮化鎵(GaN)具有大禁帶寬度、高臨界場(chǎng)強(qiáng)、高熱導(dǎo)率、高載流子飽和速率等特性,是制造高功率、高頻電子器件中重要的半導(dǎo)體材料。其中,GaN材料與金屬電極的歐姆接觸對(duì)器件性能有著重要的影響,器件利用金屬電極與GaN間接觸形成的歐姆接觸來(lái)輸入或輸出電流。當(dāng)歐姆接觸電阻過(guò)高時(shí)會(huì)產(chǎn)生較多的焦耳熱,縮短器件壽命,而良好的歐姆接觸可使器件通態(tài)電阻低,電流輸出大,具有更好的穩(wěn)定性。


    退火溫度影響歐姆接觸質(zhì)量

    氮化鎵歐姆接觸的制備通常需要進(jìn)行退火處理,退火的目的是通過(guò)熱處理改變材料的結(jié)構(gòu)和性質(zhì),使金屬電極與氮化鎵之間形成低電阻接觸。而金屬與GaN之間形成歐姆接觸的質(zhì)量受退火條件的影響,良好的歐姆接觸圖形邊緣應(yīng)保持平整,電極之間不應(yīng)存在導(dǎo)致短路的金屬粘合,退火完成后不會(huì)出現(xiàn)金屬的側(cè)流。

    (a)退火前歐姆接觸形態(tài) b)退火后歐姆接觸形態(tài)

    (圖源網(wǎng)絡(luò))


    退火溫度作為影響歐姆接觸性能的重要參數(shù),溫度過(guò)高或過(guò)低都會(huì)導(dǎo)致電阻率的增加和電流的減小。一般來(lái)說(shuō),退火溫度越高,金屬電極與氮化鎵之間的接觸電阻率則越低。

    比接觸電阻率與退火溫度的函數(shù)關(guān)系(圖源:知網(wǎng))


    然而,當(dāng)退火溫度過(guò)高則可能導(dǎo)致氮化鎵材料的損傷或金屬電極的熔化,不利于形成好的歐姆接觸;當(dāng)溫度過(guò)低時(shí)會(huì)導(dǎo)致金屬與半導(dǎo)體之間形成較高的勢(shì)壘,阻礙載流子的傳輸。因此在對(duì)GaN歐姆接觸進(jìn)行退火處理時(shí),對(duì)于退火溫度的條件選擇尤為重要。

    快速退火爐(RTP)原理

    快速退火爐(RTP)是一種用于半導(dǎo)體器件制造和材料研究的設(shè)備,其工作原理是通過(guò)快速升溫和降溫來(lái)處理材料,以改變其性質(zhì)或結(jié)構(gòu)。

    RTP結(jié)構(gòu)示意圖(圖源網(wǎng)絡(luò))


    晟鼎快速退火爐(RTP)優(yōu)勢(shì)

    RTP快速退火爐具有溫度控制精確、升溫速度快等優(yōu)點(diǎn),可以滿足歐姆接觸對(duì)溫度敏感的材料和結(jié)構(gòu)的需求。晟鼎快速退火爐制程范圍覆蓋200-1250℃,具有強(qiáng)大的溫場(chǎng)管理系統(tǒng),此外,還能靈活、快速地轉(zhuǎn)換和調(diào)節(jié)工藝氣體,使得其在同一個(gè)熱處理過(guò)程中可以完成多段處理工藝。


    晟鼎快速退火爐RTP溫度控制—1000℃制程


    半自動(dòng)快速退火爐

    RTP-SA-12為半自動(dòng)立式快速退火爐,工藝時(shí)間短,控溫精度高,相對(duì)于傳統(tǒng)擴(kuò)散爐退火系統(tǒng)和其他RTP系統(tǒng),其獨(dú)特的腔體設(shè)計(jì)、先進(jìn)的溫度控制技術(shù)和獨(dú)有的 RL900軟件控制系統(tǒng),確保了極好的熱均勻性。

    產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

    ◎紅外鹵素?zé)艄芗訜?,冷卻采用風(fēng)冷

    ◎大氣與真空處理方式均可選擇,進(jìn)氣前氣體凈化處理

    ◎燈管功率 PID 控溫,可精準(zhǔn)控制溫度升溫,保證良好的重現(xiàn)性與溫度均勻性


    全自動(dòng)雙腔退火爐

    RTP-DTS-8相對(duì)于傳統(tǒng)擴(kuò)散爐退火系統(tǒng)和其他 RTP 系統(tǒng),其獨(dú)特的腔體設(shè)計(jì)、先進(jìn)的溫度控制技術(shù)和獨(dú)有的RL900 軟件控制系統(tǒng),確保了極好的熱均勻性。

    產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

    紅外鹵素?zé)艄芗訜?,冷卻采用風(fēng)冷

    燈管功率 PID 控溫,可精準(zhǔn)控制溫度升溫,保證良好的重現(xiàn)性與溫度均勻性

    大氣與真空處理方式均可選擇,進(jìn)氣前氣體凈化處理

    標(biāo)配兩組工藝氣體,最多可擴(kuò)展至6組工藝氣體


    桌面型快速退火爐

    RTP-Table-6為桌面式6英寸晶圓快速退火爐,使用上下兩層紅外鹵素?zé)艄茏鳛闊嵩醇訜幔瑑?nèi)部石英腔體保溫隔熱,腔體外殼為水冷鋁合金,使得制品加熱均勻,且表面溫度低。 RTP-Table-6采用PID 控制,系統(tǒng)能快速調(diào)節(jié)紅外鹵素?zé)艄艿妮敵龉β?,控溫更加精?zhǔn)


    產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

    ◎雙層紅外鹵素?zé)艄芗訜?,氮?dú)饪焖俳禍?/span>

    ◎自主研發(fā)燈管分組排布,使溫度均勻性更好

    ◎采用PID 算法控制,實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)燈管功率輸出

    ◎軟件主界面能實(shí)時(shí)顯示氣體、溫度、真空度等參數(shù)

    ◎自動(dòng)識(shí)別錯(cuò)誤信息,出現(xiàn)異常時(shí)設(shè)備自動(dòng)保

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